Low-E玻璃又稱低輻射鍍膜玻璃，是在玻璃表面鍍上以銀為基礎的若干層金屬或其化合物薄膜，這些膜層具有對可見光高透過及對中遠紅外線高反射的特性，具有良好的節(jié)能效果和光學性能。真空磁控濺射法(PVD)也稱離線法，可以實現復雜膜系Low-E玻璃的大規(guī)模量產，成為近年來Low-E玻璃的主流生產工藝。
相比傳統的熱反射鍍膜玻璃，Low-E玻璃的鍍膜層數多也更薄，特別是近年來雙銀/三銀Low-E玻璃的推廣，有的產品需要沉積多達20多層不同材料的薄膜，這就對每層薄膜的質量和均勻性提出了非常苛刻的要求。如果不能很好的控制單層薄膜的質量和均勻性，這么多層薄膜累加后的顏色、透光率等光學不均勻性就會非常明顯。因此對現有的PVD鍍膜工藝來說，提高鍍膜的質量和均勻性是一個非常關鍵的課題。
1工藝氣體布氣均勻性
作為膜層均勻性控制的主要手段之一，工藝氣體布氣均勻性非常重要。我們采用如下二種方法確保工藝氣體沿玻璃板寬方向分布的均勻性：
1)布氣管路分為主管和輔管，主管由3個質量流量計分別控制Ar、O2、N2氣的供氣量，輔管根據陰較寬度分為3～7段，每段由一個質量流量計單獨控制工藝氣體流量
