手機(jī)視屏減反射膜的鍍制工藝
　　
　　手機(jī)的彩色液晶顯示屏上采用減反射保護(hù)膜，可降低人眼受到外界炫光發(fā)生反應(yīng)的影響，提升觀看舒適度，并保護(hù)眼睛。常用手機(jī)的基材是PC或亞克力基材。這兩種基材作為彩色液晶顯示屏的保護(hù)屏，都存在反射率高的缺點。因為未經(jīng)鍍膜的保護(hù)屏界面至少有4.2%的反射率，在強(qiáng)光（如太陽光）的照射下，其反射光的強(qiáng)度會嚴(yán)重降低顯示屏圖像的對比度。所以，如對保護(hù)屏表面鍍反射率小于0.5%的減反射膜，將會提高顯示屏的清晰度。
　　
　　在保護(hù)屏表面用磁控濺射方法分別鍍上高折射率的Ti02膜和低折射率的Si02膜，使保護(hù)屏具有低反射增透的效果。由于PC或亞克力基材是農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系材料，所以沉積溫度應(yīng)在30-35℃范圍之內(nèi)。
　　
　　鍍膜工藝
　　
　　(1)基片-PMMA，PC。
　　
　　(2)膜系一二層減反射膜十防水膜。
　　
　　(3)鍍膜。采用連續(xù)式磁控濺射鍍膜機(jī)進(jìn)行反應(yīng)沉積。
　　
　　①電源：Si靶用中頻電源，Ti靶用直流十脈沖電源。
　　
　　②真空度：通入Ar、02，真空度為5X10-1Pa。
　　
　�、蹨囟龋�25～35℃。
　　
　�、茌^后沉積防水膜IAF3。